Felfűtené a 2 nm-es versenyt a japán Rapidus

A 2 nm-es, illetve hasonló kategóriájú node-okon elkerülhetetlen a GAAFET tranzisztorstruktúra valamilyen implementációban történő alkalmazása, amely az EUV litográfia mellett olyan mértékben megdrágítja a fejlesztést és a gyártást, hogy nem túl sok cég gondolkodik abban, hogy a csúcstechnológiás chipgyártás területén versenyezzen. Jelenleg a TSMC, a Samsung és az Intel dolgozik hasonló gyártási eljárásokon, és ebből a trióból is magasan a TSMC áll a legjobban, hiszen a saját gyártástechnológiáj...